工业超纯水技术升级,助力高端制造业用水保障
随着电子半导体、光伏、锂电等高端制造业快速发展,对超纯水水质的要求持续提升。超纯水制备通常采用 “双级反渗透 + EDI + 抛光混床” 工艺,出水电阻率稳定在
随着电子半导体、光伏、锂电等高端制造业快速发展,对超纯水水质的要求持续提升。超纯水制备通常采用 “双级反渗透 + EDI + 抛光混床” 工艺,出水电阻率稳定在 18.2MΩ・cm,满足生产工艺对高纯度水的需求。
近年来,国产超纯水设备在膜组件、控制系统、管路材质等方面不断优化,抗污染性和稳定性显著提升,已逐步在高端项目中实现替代,为制造业提供更可靠、更经济的用水保障。

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